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在芯片制造领域，光刻机相信大家已经不陌生，它是用于确定芯片关键尺寸等重要功能，其作用不可取代，可以说任何一家芯片企业离开了它都无法制造和生产芯片。然而，光刻机的研发和制造都非常难，许多企业甚至国家在该领域投入多年都无法取得相应的成果。




荷兰ASML在光刻机领域拥有独家性
最新型的EUV光刻机，这种特殊设备，因为其特殊性，目前全球只有荷兰ASML才能够生产并对外销售。
既然是独家销售，那么就不要想价格便宜，如今一台ASML的EUV光刻机，售价高达1亿欧元，约合人民币7.4亿，还不讲价。并且还不是有钱想买就能买的，更多的情况是有钱买不到。由于《瓦森纳协议》的签署所带来的影响，此前国内芯片制造企业中芯国际想要向ASML订购EUV光刻机。前期的相关款项已经预付过去，但是迟迟无法完成最终环节的发货。这一操作也影响到了我们芯片产品在高端领域的发展。




所以，目前为了尽快解决光刻机等芯片关键设备的供应，缓解我们在芯片方面被人“卡脖子”的问题。中科院等高等院校联合起来，正式开始布局相关产业，布局芯片制造关键技术领域，进行相关的科研攻关。
国产光刻机技术迎来曙光
也正是这样的大背景下，有不少的研究所开始科研工作，而且很快便出了相关成果。近日，作为国内拥有70%光刻机专利技术的长春光机所，传来的好消息令人振幅。根据相关媒体资料显示，长春光机所突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，实现了中国超精密光学技术的跨越式发展。




从爆料消息来看，光刻机在光学透镜领域，我们已经得到了相应的技术突破，这也是光刻机的核心部件，一旦突破了该核心部件技术，可以说离光刻机正在投产又迈出了一大步。而且，这也是我们纯国产的光学投影物镜，非常值得骄傲。因为就拿ASML生产的EUV光刻机来说，它的相关透镜技术也不是自己生产的，而是采购自德国的卡尔蔡司，这是一家从事相机镜头生产的公司，在透镜相关的技术造诣颇深，可以说产品的精密性，在业界是独一档的存在。
所以想要实现国产的EUV光刻机生产，首先就要突破的就是EUV光源以及光学透镜的技术突破。这次长春光机所在光学投影物镜相关领域实现技术突破，可以说完成了国产EUV光刻机的大步跨越。




早在几年前，荷兰ASML公司CEO就曾对外表示，如果继续限制对中国相关领域的技术及产品，那么必将迫使中国对相关技术进行自主化研究并取得成果，15年左右，中国就有能力制造出相关领域的所有产品，甚至比原版更好。如今看来，ASML的CEO确实说中了，在高端光刻机的技术领域，国内已经开始攻坚科研，目前也取得了较大的成绩，可以说甚至不用15年，我们就能生产出媲美乃至超越ASML光刻机的产品。
目前，与EUV相关的技术已经在突破，一旦全面突破，那么真的就离国产EUV光刻机不远了。ASML显然也是意识到这一点，所以为了不违反相关条约，不放弃中国市场布局，加大了DUV光刻机的出货量。




总结
目前国产芯片的发展势头是非常不错的，对于未来的技术突破也十分看好，光刻机再复杂也是一个人造的设备，既然是人造的就有办法去突破。光刻机的原理我们是已经掌握了，只是现在差了技术上的验证，只要通过现有的技术积累、研发，就有机会实现高端光刻机的国产化，这也不是一件无法完成的任务。
就拿比亚迪创始人王传福的话来说，芯片再难造，那也是人造的，不是神造的。既然是人造的，那么我们就一定能想办法搞出自己的高端芯片，让我们可以挺直腰杆子，不被人在技术上“卡脖子”。
国产芯片的自主研发技术和发展可谓是突飞猛进，加上我们在芯片独刻机、芯片清洗机等世界一流的相关领域发展，从前期研发到后续芯片产品的流片，相信用不了多久的未来，国产芯片产品的制造都可以陆续实现国产设计化以及国产全制造。




这对于企业也是一件天大的好事，就拿华为海思举例来说，一旦高端芯片可以实现国产化，那么华为海思的芯片真的就可以解除后顾之忧，重新开发出自己的高端芯片产品，减少对外部企业的依赖。也只有将芯片的相关核心技术掌握在自己手里，才可以在更大的国际市场取得相应话语权，搭载我们国产芯片的产品，才能够更好地在国际市场取得更好的成绩，打开更多更大的国际市场。
我们也期待未来，我们真正的国产化高端芯片制造设备的诞生。

[ 本帖最后由 xslwh 于 2021-10-26 12:49(GMT+8) 编辑 ]

tracylilya

这个希望真的是有所突破，现在这个光刻机技术的确是明显被别人卡脖子的地方啊，要加油啊